WHATMAN氧化鋁膜是一種重要的功能薄膜材料，由于具有較高的介電常數、高熱導率、抗輻照損傷能力強、抗堿離子滲透能力強以及在很寬的波長范圍內透明等諸多優異的物理、化學性能，使其在微電子器件、電致發光器件、光波導器件以及抗腐蝕涂層等眾多領域有著廣泛的應用。
WHATMAN氧化鋁膜的應用：
1、HPLC流動相過濾和脫氣。
2、超純溶劑的制備。
3、比重分析和脂類擠壓。
4、電子顯微鏡掃描研究。
5、通過落射熒光顯微鏡分析細菌。
WHATMAN氧化鋁膜的使用注意事項：
1、產品生產加工過程中，薄膜不能有大于2%伸張率，否則氧化鋁層有可能龜裂而影響阻隔性。
2、擠出復合時，溫度不能太高及擠出膜厚度不能超過15μm，否則氧化鋁層有可能龜裂而影響阻隔性。
3、內容物勿過酸，如pH<4時，有可能腐蝕氧化鋁層。
4、因無保護涂層，氧化鋁層應避免與有槽溝的輥軸接觸，否則氧化鋁層有可能損傷而影響阻隔性，軟的輥面會減少氧化鋁層的損傷。復合時應選用合適的粘合劑，否則會影響剝離強度，軟質粘合劑有利于剝離強度。
5、僅為用戶的實驗或使用提供一些參考性建議，由于用戶的使用設備和加工條件不同，產品用途和要求不同，產品的應用應當充分驗證。
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